近日，半导体圈一则“传闻”引起市场人士广泛关注。
该消息称：“上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批交付，交付对象为国内晶圆厂，并且良率达到90%～95%。”
但经记者核实发现，该传闻早在今年3月至4月间便由个别博主在社交平台散布，并无可靠信源。该信息大量援引了今年3月SEMICON China展会上上海微电子的相关内容，且关键数据均与实际情况不符。
比如，所谓光刻机“90%～95%”的良率，即便是指加工半导体的良率，亦因“远超当前台积电先进制程良率”而明显脱离实际。
上述消息出现后，部分媒体也对以上传言进行了辟谣，网传的28nm浸没式光刻机并未交付晶圆厂，设备仍在调试阶段，所谓“良率90%～95%”的说法与实际情况存在较大偏差等。
不过，在“光之牛市”的带动下，二级市场光刻、刻蚀等半导体设备相关板块，仍然消化了传言带来的情绪提振，并在市场中走出独立行情。
其原因则与中国大量企业开始着力投入成熟制程市场有关。
5月18日，与上海微电子同隶属于上海电气集团的上海电气H股一度逆势涨14%，其涨势重现了今年3月SEMICON China展会期间上海微电子参展所引发的火热行情。
无独有偶，5月15日，刻蚀设备商中微公司一度接近“20CM”涨停。有消息称，中微公司上调2026年订单增速指引（从30%上调至50%），其给出的理由为存储芯片、国产先进制程领域的旺盛需求，以及国内晶圆厂扩产带来的增量需求。
从A股大方向来看，Wind半导体设备指数月线已经连续两个月实现两位数涨幅，为去年8月以来首次。但与其他“沾光”企业相比，国产半导体设备的进展主要围绕成熟制程展开，且呈产研两旺的局面。
成熟制程需求高企
近日，中芯国际创始人张汝京呼吁，中国半导体产业不应对高端制程“盲目执着”，而应选择主攻成熟制程市场。
他指出，以产品数量计算，3nm、2nm等先进制程在全球市场占比不足20%，而超过80%的需求来自成熟制程与特色工艺。在汽车电子、工业控制、物联网等领域，28nm及以上成熟工艺不仅完全够用，且具备高良率和成本优势。
此前，英伟达CEO黄仁勋在做客个人播客节目时也提出了类似观点：市场主流半导体为成熟制程半导体，中国在这方面拥有巨大的潜力和能力。
根据中商产业研究院数据，成熟制程光刻机市场在全球半导体设备中占据重要份额。2025年全球光刻机市场规模约为350亿美元，预计2026年将增长至392亿美元。
而由于欧洲特别是荷兰对中国的半导体设备出口规模持续下降，我国半导体设备供应商开始逐渐崛起，尝试补齐短板。
4月，国际半导体产业协会（SEMI）发布报告称，2026年一季度，全球半导体设备销售额达280亿美元，其中中国内地采购额占比升至35%，创历史新高。
从需求端来看，SEMI数据显示2026年一季度中国内地半导体设备采购额约98亿美元，同比增长25%，主要来自中芯国际、华虹半导体、长鑫存储等晶圆厂的扩产需求。其中，刻蚀、薄膜沉积、清洗设备占比最高。
从设备结构看，成熟制程光刻机（主要包括KrF、i-line及部分ArF设备）需求稳定，尤其在功率半导体、模拟芯片、车规芯片、CIS、MEMS和化合物半导体等领域维持较长生命周期。
渐进式获得市场份额
从市场结构来看，全球光刻机高端市场被ASML垄断，EUV、DUV光源难以突破。但是，全球成熟制程光刻机行业亦有尼康、佳能占据中低端市场，中国成熟制程半导体设备占比尚无法与以上日本厂商相提并论，市场突围仍是一大可行方向。
据悉，上海微电子主推产品为90nm成熟制程光刻机，如SSX/SSA600系列步进扫描投影光刻机。截至2025年，其SSX600系列步进扫描投影光刻机（支持90nm及以下制程）出货量占国内光刻机市场份额超过80%。
但与此同时，上海微电子的绝对销售额相比美日企业仍有差距。
中信证券援引SEMI数据指出，2024年国内光刻机市场规模超400亿元，但国产化率仅约2.5%。不论是成熟制程还是高端制程，市场占有率均有很大提升空间。
从技术演进来看，光刻机的发展始终伴随着关键的光源突破，其最早采用248nm（KrF）和193nm（ArF）等深紫外（DUV）光源，随后逐步推进至当前最先进的13.5nm极紫外（EUV）光源。每一次光源波长的缩短，都显著提升了光刻机的分辨率与精度，推动工艺节点从微米级迈入纳米级。
而浸没式光刻技术的引入成为重要转折，其通过在透镜与晶圆之间注入液体，将193nm光刻的数值孔径从0.93提高至1.35，使ArF光刻得以延伸至7nm节点。
这一突破也让ASML在与尼康的竞争中取得关键优势。而随后的EUV光刻技术的商业化，则标志着ASML奠定了全球顶尖光刻机厂商的地位。
从技术演变的角度来看，成熟制程“农村包围城市”的战略，或许已经成为半导体设备行业演进的底层逻辑，这一路径本就难以绕开。
资本市场对光刻机板块的高度关注，源于政策、确定性的市场需求与巨大替代空间形成的强烈共振。
政策层面，国家集成电路产业投资基金三期注册资本达3440亿元，重点投向包括光刻机在内的关键产业链环节。此前，上海、北京等地也出台专项政策，目标是在未来将光刻机零部件国产化率提升至70%以上。
从产业分布来看，光刻机产业链相关公司，从整机厂到上游的光学部件、激光光源、双工件台、光刻胶等企业，近期均成为资金布局的焦点。A股市场光刻机概念板块在2025年多次出现整体性强势上涨，相关个股频现涨停。
机构普遍认为，在AI需求拉动成熟与先进制程双线扩产、政策强力支持以及国产技术从“0到1”迈向“1到N”量产的关键阶段，光刻机产业链正迎来新的发展契机。而如果选对方向，基于符合实际情况的期待，中国半导体设备行业可能会在不远的将来，迎来属于自己的“寒武纪时刻”。
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